大部分氧化物薄膜進(jìn)行材料方面都有自己很多企業(yè)相似的性質(zhì)，一般我們常用的氧化物材薄膜料三氧化二鋁、二氧化硅等氧化物納米材料的特點(diǎn)為：具有一種耐高溫、抗熱沖擊、機(jī)械設(shè)計(jì)強(qiáng)度高、堅(jiān)硬等特點(diǎn)。

氧化鋁作為一種高折射率材料，廣泛應(yīng)用于多層介質(zhì)膜中。 氧化鋁薄膜由于其優(yōu)異的光學(xué)性能、高的機(jī)械強(qiáng)度和硬度、良好的透明性和絕緣性、耐磨性、耐腐蝕性和化學(xué)惰性，在光學(xué)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。 膜的光學(xué)性質(zhì)強(qiáng)烈地取決于涂覆條件和諸如雜質(zhì)污染的其它因素。 由于其自身的穩(wěn)定性，通常將其用作涂覆過程中的保護(hù)層的最后膜。

由于氧化鋁薄膜在可見光和近紅外區(qū)沒有吸收峰，因此氧化鋁薄膜是一種有吸引力的光纖摻雜材料。該摻鉺光纖放大器具有高增益、低噪聲、寬帶寬和高飽和輸出功率的優(yōu)點(diǎn)，石英模光纖的最小能量消耗波長為1.55 μm，因此在光纖通訊中作為繼電放大器、功率放大器和前置放大器，是實(shí)現(xiàn)核心部件的全光傳輸。

二氧化硅是唯一的分解小的低折射率氧化物，其折射率為1.46。二氧化硅薄膜可以作為一個(gè)重要的納米復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)材料，具有寬透明區(qū)（0.15~8?um）、高硬度、低熱膨脹風(fēng)險(xiǎn)系數(shù)、耐摩擦、耐酸堿、抗腐蝕等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛研究應(yīng)用于中國光學(xué)薄膜主要元件、半導(dǎo)體技術(shù)集成系統(tǒng)電路、電子控制器件、傳感器、激光顯示器件、化學(xué)工業(yè)催化、生物學(xué)習(xí)醫(yī)學(xué)、表面通過改性和醫(yī)藥產(chǎn)品包裝等領(lǐng)域。